(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202110754636.5 (22)申请日 2021.07.0 5 (66)本国优先权数据 202010639241.6 2020.07.0 6 CN 202011168177.4 2020.10.2 9 CN (71)申请人 成都先导药物开发股份有限公司 地址 610200 四川省成 都市双流区 （天府国 际生物城） 慧谷东 一路8号6 栋 (72)发明人 李进　戴维扬　牟奇勇　李真如　 董利明　窦登峰　 (51)Int.Cl. C07F 9/6558(2006.01) C07D 413/12(2006.01) C07D 403/12(2006.01) C07D 403/14(2006.01)C07D 401/12(2006.01) C07D 401/14(2006.01) C07D 471/04(2006.01) C07D 405/14(2006.01) C07D 405/12(2006.01) C07D 487/08(2006.01) C07D 413/14(2006.01) C07D 417/12(2006.01) C07D 417/14(2006.01) C07D 471/10(2006.01) A61K 31/675(2006.01) A61K 31/538(2006.01) A61K 31/506(2006.01) A61K 31/5377(2006.01) A61K 31/5415(2006.01) A61P 35/00(2006.01) (54)发明名称 一种选择性EGFR抑制剂 (57)摘要 本发明涉及一种式I所示的化合物， 或者其 立体异构体、 药学上可接受的盐及其在医药上的 用途。 式I化合物能够与EGF R结合， 作为EGF R抑制 剂用于治 疗各种与EGFR相关的疾病。 权利要求书11页 说明书93页 CN 113896744 A 2022.01.07 CN 113896744 A 1.式I所示的化 合物， 或者 其立体异构体、 药 学上可接受的盐： 其中， X选自卤素、 C1～6烷基、 卤素取代的C1～6烷基、 C2～6烯基、 C2～6炔基、 氰基、 硝基、 3～6元环烷 基； R1选自氢、 C1～6烷基； R2选自‑P(O)R21R22、‑NR21S(O)R22、‑NR21S(O)2R22、‑NR21S(O)(NR22)R23、‑N＝S(O)R21R22、‑S (O)(NR21)R22、‑S(O)2R21、 R21、 R22、 R23分别独立选自氢、 C1～6烷基、 卤素取代的C1～6烷基、 3～6元环烷基； 或R21与R22 与其相连的原子相连 形成3～8元环烷基、 3～8元杂环烷基； R3选自氢、 卤素、 C1～6烷基、 C1～6烷氧基； 或者， R1与R2与其相连的原子相连形成5～8元杂环烷基； 其中杂环烷基可进一步被一 个、 两个或三个R12取代； 每个R12分别独立选自C1～6烷基、‑S(O)R22、‑S(O)2R22、‑S(O)(NR22) R23； 或者， R2与R3与其相连的原子相连形成5～8元杂环烷基； 其中杂环烷基可进一步被一 个、 两个或三个R32取代； 每个R32分别独立选自C1～6烷基、 氧、 ‑S(O)2R33； R33选自氢、 C1～6烷基； R4、 R5、 R6分别独立选自氢、 卤素、 C1～6烷基、 C1～6烷氧基； 或者， R4与R5与其相连的原子相连形成5～6元环烷基、 5～6元杂环烷基、 5～6元芳环、 5 ～6元芳杂环； 其中环烷基、 杂环烷基、 芳环、 芳杂环可进一 步被一个、 两个或三个R51取代； 或者， R5与R6与其相连的原子相连形成5～6元环烷基、 5～6元杂环烷基、 5～6元芳环、 5 ～6元芳杂环； 其中环烷基、 杂环烷基、 芳环、 芳杂环可进一 步被一个、 两个或三个R51取代； 每个R51分别独立选自卤素、 C1～6烷基、 卤素 取代的C1～6烷基、 氰基、 硝基； R7选自氢、 C1～6烷基； A环选自5～10元环烷基、 5～10元杂环烷基、 5～10元芳环、 5～10元芳杂环； 其中环烷 基、 杂环烷基、 芳环、 芳杂环可进一 步被一个、 两个或三个RA取代； 每个RA分别独立选 自氢、 卤素、 C1～6烷基、 卤素取代的C1～6烷基、 C2～6烯基、 C2～6炔基、 氧、 氰基、 硝基、 ‑ORA1、‑(C1～6亚烷基)‑ORA1、‑OC(O)RA1、‑NRA1RA2、‑NRA1C(O)RA2、‑C(O)RA1、‑C(O) ORA1、‑C(O)NRA1RA2、 3～6元环烷基、 3～6元杂环烷基、 5～6元芳环、 5～6元芳杂环、 5～9元桥 环、 5～9元桥杂环、 6～10元螺环、 6～10元螺杂环； 其中环烷基、 杂环烷基、 芳环、 芳杂环、 桥 环、 桥杂环、 螺环、 螺杂环可进一 步被一个、 两个或三个RAA取代； RA1、 RA2分别独立选自氢、 C1～6烷基； 每个RAA分别独立选自氢、 卤素、 C1～6烷基、 卤素取代的C1～6烷基、 C2～6烯基、 C2～6炔基、 氧、 氰基、 硝基、 ‑ORA1、‑(C1～6亚烷基)‑ORA1、‑OC(O)RA1、‑NRA1RA2、‑NRA1C(O)RA2、‑C(O)RA1、‑C(O)权　利　要　求　书 1/11 页 2 CN 113896744 A 2ORA1、‑C(O)NRA1RA2、 3～6元环烷基、 3～6元杂环烷基； 其中环烷基、 杂环烷基可进一步被一 个、 两个或三个RAB取代； 每个RAB分别独立选自氢、 C1～6烷基。 2.根据权利要求1所述的化 合物， 其特 征在于： R1与R2相连形成式IIa所示的结构： 其中， n为1、 2、 3或4； R12选自‑S(O)R22、‑S(O)2R22、‑S(O)(NR22)R23。 3.根据权利要求1所述的化 合物， 其特 征在于： R2与R3相连形成式IIb所示的结构： 其中， n为1、 2、 3或4； Y选自‑CH2‑、‑NH‑、 O或S。 4.根据权利要求1所述的化合物， 其特征在于： R4与R5相连形成式IIca所示的结构； 或 者， R5与R6相连形成式IIcb所示的结构： 其中， B环选自5～6元环烷基、 5～6元杂环烷基、 5～6元芳环、 5～6元芳杂环； 其中环烷基、 杂 环烷基、 芳环、 芳杂环可进一 步被一个、 两个或三个R51取代。 5.根据权利要求 4所述的化 合物， 其特 征在于： B环选自苯环。 6.根据权利要求1所述的化合物， 其特征在于： A环选自 权　利　要　求　书 2/11 页 3 CN 113896744 A 3