(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123386178.9 (22)申请日 2021.12.2 9 (73)专利权人 深圳思谋信息科技有限公司 地址 518051 广东省深圳市南 山区高新 南 九道45号 三航科技大厦2 2楼 专利权人 上海思谋科技有限公司 (72)发明人 黄杰勇　 (74)专利代理 机构 华进联合专利商标代理有限 公司 44224 专利代理师 何平 (51)Int.Cl. B25B 11/00(2006.01) (54)实用新型名称 真空治具及测试装置 (57)摘要 本实用新型涉及真空吸附技术领域， 特别是 涉及一种真空治具及测试装置。 该真 空治具包括 基座、 第一真空发生单元及第二真空发生单元。 位于第一区域的吸附孔和第一真空单元连通， 位 于第二区域的吸附孔和第二真空单元连通， 使 得 第一区域和第二区域的吸附孔能够形成负压， 并 产生吸附力， 实现承载面对工件的吸附固定。 当 承载面上放置的工件尺寸小于预设尺 寸时， 工件 位于第一区域， 使得工件能覆盖住位于第一区域 的多个吸附孔， 降低第一区域的吸附孔外露导致 漏气影响吸附效果的可能， 保证位于第一区域的 吸附孔的负压效果， 进而对工件进行吸附固定， 降低工件随着真空治具的移动产生位移和晃动 的风险， 使得该真空治具的使用适配性更强。 权利要求书1页 说明书6页 附图3页 CN 216830474 U 2022.06.28 CN 216830474 U 1.一种真空治具， 其特 征在于， 包括基座、 第一真空发生单 元及第二真空发生单 元； 所述基座具有用于承载工件的承载面， 所述承载面上设置有多个吸附孔； 所述承载面 包括第一区域和第二区域， 位于所述第一区域的所述吸附孔与所述第一真空发生单元连 通， 位于所述第二区域的所述吸附孔与所述第二真空发生单元连通， 所述第一区域的面积 小于所述第二区域的面积； 所述第一区域至少用于放置第一工件， 所述第一工件为尺寸不 大于预设尺寸的工件。 2.根据权利要求1所述的真空治具， 其特征在于， 所述第二区域能够放置第二工件， 所 述第二工件为尺寸大于所述预设尺寸的工件， 且所述第一区域能够 承载位于所述第二区域 的所述第二工件的部分位置 。 3.根据权利要求2所述的真空治具， 其特征在于， 所述基座包括支撑座、 盖板和L形隔 板， 所述支撑座与所述盖 板连接， 所述吸附孔设置 于所述盖 板上； 所述支撑座构造有内腔， 所述L形隔板连接于所述内腔的腔壁， 所述L形隔板将所述内 腔划分为第一开口槽和第二开口槽， 所述盖板连接于所述第一开口槽的区域为所述第一区 域， 所述第一开口槽与所述第一真空发生单元连通； 所述盖板连接于所述第二开口槽的区 域为所述第二区域， 所述第二 开口槽与所述第二真空发生单 元连通。 4.根据权利要求3所述的真空治具， 其特征在于， 所述真空治具还包括定位机构， 所述 定位机构用于带动所述第一工件沿靠近所述第一区域的方向移动， 以使 所述第一工件位于 所述第一区域； 或所述定位机构用于带动所述第二工件沿靠近所述第一区域的方向移动， 以使所述第二工件的部分位于所述第一区域， 另一部分位于所述第二区域。 5.根据权利要求4所述的真空治具， 其特征在于， 所述定位机构包括第一定位组件， 所 述第一定位组件包括第一驱动件和连接于所述第一驱动件的第一挡板， 所述第一驱动件用 于驱动所述第一挡板沿所述支撑座的长度方向且沿靠 近所述第一区域的方向移动。 6.根据权利要求5所述的真空治具， 其特征在于， 所述真空治具还包括第二定位组件， 所述第二定位组件包括第二驱动件和连接于所述第二驱动件的第二挡板， 所述第二驱动件 用于驱动所述第二挡板沿所述支撑座的宽度方向且沿靠 近所述第一区域的方向移动。 7.根据权利要求6所述的真空治具， 其特征在于， 所述第一挡板构造有第一定位柱， 所 述盖板构造有沿自身长度方向延伸的第一凹槽， 所述第一凹槽与所述吸 附孔间隔， 所述第 一定位柱 滑动连接 于所述第一凹槽的槽壁； 和/或， 所述第 二挡板构造有第 二定位柱， 所述盖板构造有沿自身宽度 方向延伸的第二 凹槽， 所述第二凹槽与所述吸附孔间隔， 所述第二定位柱 滑动连接 于所述第二凹槽的槽壁。 8.根据权利要求6所述的真空治具， 其特征在于， 所述第一挡板和/或所述第二挡板靠 近所述第一 开口槽的一侧设置有缓冲件。 9.根据权利要求3所述的真空治具， 其特征在于， 所述真空治具还包括第 一压力检测仪 和第二压力检测仪， 所述第一压力检测仪与所述第一开口槽连接， 所述第二压力检测仪与 所述第二 开口槽连接 。 10.一种测试装置， 其特 征在于， 包括权利要求1 ‑9任一项所述的真空治具。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216830474 U 2真空治具及测试装 置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及真空吸附技 术领域， 特别是 涉及一种真空治具及测试装置 。 背景技术 [0002]真空治具是通过外置真空发生器与内部腔体连通产生负压， 从而将工件吸附在治 具表面， 以对工件进行吸附固定， 便于对工件进行后续操作。 例如， 在对PCB(Printed   Circuit Board， 印制电路板)进行外观检测时， 真空治具带动PCB板一起相对检测仪器移 动， 使得工件的待检测位置与检测仪器对准， 从而对工件的待检测位置进 行品质测试。 现有 的真空治 具在固定小尺寸的工件时， 固定效果不佳， 随着真空治 具的移动， 工件会产生位移 和晃动， 从而影响工件待检测位置的检测精度和检测效率。 实用新型内容 [0003]基于此， 有必要针对现有的真空治具存在固定效果不佳的问题， 提供一种解决上 述问题的真空治具。 [0004]一种真空治具， 包括基座、 第一真空发生单 元及第二真空发生单 元； [0005]所述基座具有用于承载工件的承载面， 所述承载面上设置有多个吸附孔； 所述承 载面包括第一区域和 第二区域， 位于所述第一区域的所述吸附孔与所述第一真空发生单元 连通， 位于所述第二区域的所述吸 附孔与所述第二真空发生单元连通， 所述第一区域的面 积小于所述第二区域的面积； 所述第一区域至少用于放置第一工件， 所述第一工件为尺寸 不大于预设尺寸的工件。 [0006]在其中一个实施例中， 所述第二区域能够放置第二工件， 所述第二工件为尺寸大 于所述预设尺寸的工件， 且所述第一区域能够 承载位于所述第二区域的所述第二工件的部 分位置。 [0007]在其中一个实施例中， 所述基座包括支撑座、 盖板和L形隔板， 所述支撑座与所述 盖板连接， 所述吸附孔设置 于所述盖 板上； [0008]所述支撑座构造有内腔， 所述L形隔板连接于所述内腔的腔壁， 所述L形隔板将所 述内腔划分为第一开口槽和第二开口槽， 所述盖板连接于所述第一开口槽的区域为所述第 一区域， 所述第一开口槽与所述第一真空发生单元连通； 所述盖板连接于所述第二开口槽 的区域为所述第二区域， 所述第二 开口槽与所述第二真空发生单 元连通。 [0009]在其中一个实施例中， 所述真空治具还包括定位机构， 所述定位机构用于带动所 述第一工件沿靠近所述第一区域的方向移动， 以使所述第一工件位于所述第一区域； 或所 述定位机构用于带动所述第二工件沿靠近所述第一区域的方向移动， 以使 所述第二工件的 部分位于所述第一区域， 另一部分位于所述第二区域。 [0010]在其中一个实施例中， 所述定位机构包括第一定位组件， 所述第一定位组件包括 第一驱动件和连接于所述第一驱动件的第一挡板， 所述第一驱动件用于驱动所述第一挡板 沿所述支撑座的长度方向且沿靠 近所述第一区域的方向移动。说　明　书 1/6 页 3 CN 216830474 U 3