(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123071921.1 (22)申请日 2021.12.08 (73)专利权人 北京鲁汶半导体科技有限公司 地址 100176 北京市大兴区北京经济技 术 开发区经海二路28号 4幢2层20 3 (72)发明人 桑康　高强　王铖熠　郭颂　 张怀东　刘海洋　胡冬冬　许开东　 (74)专利代理 机构 深圳市广诺专利代理事务所 (普通合伙) 44611 专利代理师 陈启绪 (51)Int.Cl. F16M 11/22(2006.01) F16M 11/04(2006.01) H01L 21/67(2006.01) (54)实用新型名称 刻蚀腔体的支撑装置和刻蚀腔体 (57)摘要 本实用新型公开了刻蚀腔体的支撑装置和 刻蚀腔体， 刻蚀腔体包括腔室本体和腔盖， 腔盖 可旋转地连接在腔室本体上， 支撑装置适于在腔 盖打开腔室本体时支撑在腔盖的背面， 支撑装置 包括： 第一固定块和第二固定块， 第一固定块和 第二固定块沿刻蚀腔体的左右方向间隔开布置， 第一固定块和第二固定块均固定在机架上； 可折 叠支撑杆， 支撑杆的一端可转动地连接在第一固 定块上， 支撑杆可在展开状态和收纳状态之间进 行切换， 支撑杆处于收纳状态时支撑杆的另一端 通过拨动杆限位在第二固定块上， 支撑杆处于展 开状态时拨动杆释放支撑杆且支撑杆展开呈人 字形状。 根据本实用新型的刻蚀腔体的支撑装 置， 不会额外占用机架周围的地面空间， 使用方 便， 便于收纳。 权利要求书1页 说明书5页 附图6页 CN 216619184 U 2022.05.27 CN 216619184 U 1.刻蚀腔体的支撑装置， 其特征在于， 所述刻 蚀腔体和所述支撑装置均设在机架上， 所 述刻蚀腔 体包括腔室本体和腔盖， 所述腔盖可旋转地连接在所述腔室本体上用于打开和关 闭所述腔室本体， 所述支撑装置位于所述刻蚀腔体的背面， 所述支撑装置适于在所述腔盖 打开所述腔室本体时支撑在所述腔盖的背面， 所述支撑装置包括： 第一固定块和第 二固定块， 所述第 一固定块和所述第 二固定块沿所述刻 蚀腔体的左右 方向间隔开布置， 所述第一固定块和第二固定块均固定在所述机架上； 可折叠支撑杆， 所述支撑杆的一端可转动地连接在所述第一固定块上， 所述支撑杆可 在展开状态和收纳状态之 间进行切换， 所述支撑杆处于所述收纳状态时所述支撑杆的另一 端通过拨动杆限位在所述第二固定块上， 所述支撑杆 处于所述展开状态时所述拨动杆释放 所述支撑杆且所述支撑杆展开呈 人字形状用于支撑所述腔盖的背面。 2.根据权利要求1所述的刻蚀腔体的支撑装置， 其特征在于， 所述支撑杆包括本杆体和 子杆体， 所述子杆体可转动地连接在所述本杆体的朝向所述第二固定块的一端， 所述本杆 体的下表面设有容纳槽， 所述子杆体可折叠地收纳在所述容纳槽内， 所述子杆体脱离所述 容纳槽时所述子杆体和所述本杆体呈 人字形状。 3.根据权利要求2所述的刻蚀腔体的支撑装置， 其特征在于， 所述本杆体形成为T字形 杆， 所述本杆体包括横杆段和竖杆段， 所述横杆段连接在所述竖杆段 的朝向第二固定块的 一端， 所述拨动杆位于所述横杆段和所述竖杆段的衔接处且将所述本杆体限位在所述第二 固定块上。 4.根据权利要求3所述的刻蚀腔体的支撑装置， 其特征在于， 所述第 二固定块设有朝向 所述本杆体延伸的支撑部， 所述支撑部上设有具有开口的滑槽， 所述拨动杆配合在所述滑 槽内用于限位所述本杆体， 所述拨动杆脱离所述滑槽用于释放所述本杆体。 5.根据权利要求4所述的刻蚀腔体的支撑装置， 其特征在于， 所述横杆段上设有限位 槽， 在所述限位槽内安装有滑动轴， 在所述滑动轴上套设有第一 弹性件， 所述滑动轴上配合 有所述拨动杆， 通过 所述拨动杆 带动所述滑动轴滑动。 6.根据权利要求5所述的刻蚀腔体的支撑装置， 其特征在于， 还包括 限位片， 所述 限位 片盖设在所述限位槽上， 在所述限位片上设有沿所述滑动轴长度方向延伸的限位孔， 所述 拨动杆穿过 所述限位 孔和所述滑动轴配合。 7.根据权利要求2 ‑6中任一项所述的刻蚀腔体的支撑装置， 其特征在于， 还包括： 第二 弹性件， 所述本杆体的朝向所述第一固定块的一端和所述第一固定块之间设有所述第二 弹 性件， 所述拨动杆释放所述本杆体后所述第二弹性件驱动所述本杆体向上旋转。 8.根据权利要求3所述的刻蚀腔体的支撑装置， 其特征在于， 所述腔盖的背面设有缓冲 垫， 所述腔盖处于展开状态时所述缓冲垫 抵接在所述横杆 段处。 9.根据权利要求1所述的刻蚀腔体的支撑装置， 其特征在于， 所述腔盖和所述腔室本体 通过铰链可转动地相连。 10.刻蚀腔体， 其特征在于， 包括根据权利要求1 ‑9中任一项所述的刻蚀腔体的支撑装 置。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216619184 U 2刻蚀腔体的 支撑装置和刻蚀腔体 技术领域 [0001]本实用新型涉及半导体设备技术领域， 尤其是涉及刻蚀腔体的支撑装置和刻蚀腔 体。 背景技术 [0002]随着半导体设备的配置需要， 在刻蚀腔体 的腔盖上安装有射频匹配器、 微波源以 及其他装置， 故腔盖上的装置体积和重量较大。 在实际生产过程中， 由于腔 体内部零件需要 经常更换、 改造和调试， 同时也需要定期清理腔体内部， 因此需要经常将腔盖打开进行维 护， 但是由于体积和重量较大， 打开后需要对腔盖进行支撑， 以免造成安全隐患。 [0003]在现有技术中， 腔盖打开后对腔盖 的支撑方式为增 设旋转支撑架， 在腔盖打开后 旋转支撑架的底部落在机架外的地面上， 该种支撑结构占地面积大， 使用不方便， 而且使用 后不便于收纳。 实用新型内容 [0004]本实用新型旨在至少解决现有技 术中存在的技 术问题之一。 [0005]为此， 本实用新型提出刻蚀腔体的支撑装置， 所述刻蚀腔体的支撑装置不会占用 额外地面， 使用方便， 便 于收纳。 [0006]本实用新型还提出了具有上述刻蚀腔体的支撑装置的刻蚀腔体。 [0007]根据本实用新型第一方面的刻蚀腔体的支撑装置， 所述刻蚀腔体和所述支撑装置 均设在机架上， 所述刻蚀腔体包括腔室本体和腔盖， 所述腔盖可旋转地连接在所述腔室本 体上用于打开和关闭所述腔室本体， 所述支撑装置位于所述刻蚀腔体的背面， 所述支撑装 置适于在所述腔盖打开所述腔室本体时支撑在所述腔盖的背面， 所述支撑装置包括： 第一 固定块和 第二固定块， 所述第一固定块和所述第二固定块沿所述刻蚀腔 体的左右方向间隔 开布置， 所述第一固定块和第二固定块均固定在所述机架上； 可折叠支撑杆， 所述支撑杆的 一端可转动地连接在所述第一固定块上， 所述支撑杆可在展开状态和收纳状态之 间进行切 换， 所述支撑杆 处于所述收纳状态时所述支撑杆的另一端通过拨动杆限位在所述第二固定 块上， 所述支撑杆处于所述展开状态时所述拨动杆释放所述支撑杆且所述支撑杆展开呈人 字形状用于支撑所述腔盖的背面。 [0008]根据本实用新型的刻蚀腔体 的支撑装置， 该支撑装置直接安装在机架上， 在腔盖 打开后， 支撑装置的可折叠支撑杆可以展开对腔盖进 行支撑， 在腔盖闭合时， 可折叠支撑杆 收纳在机架上， 不会额外占用机架周围的地 面空间， 使用更加方便， 也便 于进行收纳。 [0009]根据本实用新型的一个实施例， 所述支撑杆包括本杆体和子杆体， 所述子杆体可 转动地连接在所述本杆体的朝 向所述第二固定块的一端， 所述本杆体的下表面设有容纳 槽， 所述子杆体可折叠地收纳在所述容纳槽内， 所述子杆体脱离所述容纳槽时所述子杆体 和所述本杆体呈 人字形状。 [0010]根据本实用新型的一个可选的示例， 所述本杆体形成为T字形杆， 所述本杆体包括说　明　书 1/5 页 3 CN 216619184 U 3